ASML eleva a potência para 1.000 W e visa produzir cerca de 330 wafers por hora, reforçando a liderança da empresa em litografia avançada.

A ASML Holding NV revelou hoje uma melhoria significativa na sua fonte de luz EUV (Extreme Ultraviolet), que poderá permitir aos fabricantes de semicondutores aumentar a produção de chips em até 50% por ferramenta até 2030.

Atualmente, as fontes de luz EUV da ASML operam com uma potência de 600 W, permitindo processar cerca de 220 wafers por hora. Com a atualização, a potência será elevada para 1.000 W, com o objetivo de atingir aproximadamente 330 wafers por hora. Este avanço representa um aumento notável na produtividade dos sistemas de litografia, fundamentais para a produção de semicondutores avançados.

A ASML reforça assim a sua posição de liderança no mercado de litografia de ponta, tecnologia crítica para a próxima geração de chips, essenciais em áreas como inteligência artificial, computação de alto desempenho e dispositivos móveis.

Segundo analistas, esta melhoria não só permitirá maior eficiência na produção, como também ajudará a aliviar algumas das limitações da cadeia global de semicondutores, numa altura em que a procura continua a crescer de forma acelerada.

A empresa mantém-se na vanguarda tecnológica, prometendo acelerar o desenvolvimento de semicondutores mais rápidos, compactos e eficientes.

Em suma , está atualização não aumenta imediatamente a receita, mas cria potencial significativo de crescimento:

• Mais valor por máquina → preços mais altos ou vendas adicionais

• Clientes dependentes → receita recorrente de manutenção e upgrades

• Maior capacidade de produção global de chips → clientes comprando mais ou expandindo contratos

Estima-se que, se a adoção for ampla, a ASML pode ver crescimento de receita anual de dois dígitos no segmento EUV até 2030.